波長355nm紫外線10倍ビームエキスパンダー

レーザーシステム開発におけるビームエキスパンダーは、様々な要素の校正に利用されます。レーザーシステム出力におけるレーザービームの直径は、対物レンズ入力における必要な直径に調整されます。ビームエキスパンダーは、レーザー加工においても主に用いられます。

固定ビームエキスパンダーは、レーザー彫刻などの特定のビーム拡張用途向けに設計されています。また、反射防止コーティングと高い透過率を備え、ビーム拡張効率を最大化し、損失を低減します。欠点は、拡大率が固定されているため、出力ビームサイズの調整が必要な用途には適さないことです。

主な特徴：

• 倍率：10倍（固定）
• 波長：355nm（紫外線）
• 用途：レーザーマーキングおよび切断システム
• コーティング：高透過率を実現する反射防止（AR）コーティング
• 設計：ビーム拡張を安定かつ確実に行うための固定式ビーム拡張装置

製品説明：
ビームエキスパンダーは、光学素子の校正を行うことで、レーザーシステムの開発において重要な役割を果たします。レーザーシステムの出力ビーム径は、対物レンズの入力における必要な直径に調整されます。主にレーザー材料加工で使用されるこのモデルのような固定ビームエキスパンダーは、レーザー彫刻など、安定したビーム拡張が不可欠な用途向けに特別に設計されています。

利点：

• 反射防止コーティングによりビーム拡大効率が最大化されます
• 高い透過率により光損失が低減される
• 黒色アルマイトコーティングを施した堅牢な機械設計

制限：
固定倍率のエキスパンダーでは、出力ビームサイズを動的に調整することはできません。出力ビームサイズを調整する必要がある用途には、可変ビームエキスパンダーをお勧めします。

アプリケーション:

• UVレーザーによるマーキングと彫刻
• レーザー切断システム
• レーザー材料加工
• F-Thetaスキャンレンズとの統合